[实用新型]一种原子层沉积设备有效
申请号: | 201920063129.5 | 申请日: | 2019-01-15 |
公开(公告)号: | CN209276631U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 郑锦;王新朋;刘兵武 | 申请(专利权)人: | 南京原磊纳米材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种原子层沉积设备,涉及原子层沉积技术领域;包括主体,所述主体内部设置有用于容置放置盒和喷气组件空腔,所述放置盒为多层结构,所述放置盒外侧设置有多组喷气组件;所述喷气组件上设置有与放置盒上每层晶圆对应设置的喷嘴,所述放置盒上端设置有电动升降装置,所述电动升降装置设置有调速装置。本实用新型运行平稳,保证了晶圆的原子层沉积质量。 | ||
搜索关键词: | 放置盒 喷气组件 原子层沉积设备 电动升降装置 本实用新型 晶圆 原子层沉积技术 原子层沉积 调速装置 多层结构 外侧设置 主体内部 喷嘴 上端 空腔 容置 保证 | ||
【主权项】:
1.一种原子层沉积设备,包括主体(1),所述主体(1)内部设置有用于容置放置盒(6)和喷气组件(7)的空腔,所述放置盒(6)内部为多层结构,所述放置盒(6)外侧设置有多组喷气组件(7);其特征在于,所述喷气组件(7)上设置有与放置盒(6)上每层晶圆对应设置的喷嘴(8),所述放置盒(6)上端设置有电动升降装置(3),所述电动升降装置(3)设置有调速装置(5)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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