[实用新型]一种原子层沉积设备有效
申请号: | 201920063129.5 | 申请日: | 2019-01-15 |
公开(公告)号: | CN209276631U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 郑锦;王新朋;刘兵武 | 申请(专利权)人: | 南京原磊纳米材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 放置盒 喷气组件 原子层沉积设备 电动升降装置 本实用新型 晶圆 原子层沉积技术 原子层沉积 调速装置 多层结构 外侧设置 主体内部 喷嘴 上端 空腔 容置 保证 | ||
本实用新型公开了一种原子层沉积设备,涉及原子层沉积技术领域;包括主体,所述主体内部设置有用于容置放置盒和喷气组件空腔,所述放置盒为多层结构,所述放置盒外侧设置有多组喷气组件;所述喷气组件上设置有与放置盒上每层晶圆对应设置的喷嘴,所述放置盒上端设置有电动升降装置,所述电动升降装置设置有调速装置。本实用新型运行平稳,保证了晶圆的原子层沉积质量。
技术领域
本实用新型涉及原子层沉积技术领域,具体是一种原子层沉积设备。
背景技术
原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。
现有的原子层沉积设备顶部升降机构均为双气缸运动机构,最多只能提供四个高度位置,而且速度是通过气动节流阀门来控制:除了调节时间较长,不方便;速度不可控,会导致要么太快要么太慢,不可能提供变速来提高运行效率。例如:行程刚刚开始时,为了避免惯性引起的晶圆或载体振动,需要很慢的速度,此时气缸必须调得很慢才行,但后面的行程,由于节流阀速度的设定,就会变的一直很慢,到了行程快结束,由于部件套合,需要一个缓冲来减少振动,但由于无法调速,只能采取机械吸震的方法,这种方法有时会导致各路气体喷嘴和导套在套合时容易出现误差,无法确保稳定性,从而引起气体导入出现泄露,工艺的重复性较差。另外气缸的寿命较短,维护周期较长。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种原子层沉积设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种原子层沉积设备,包括主体,所述主体内部设置有用于容置放置盒和喷气组件的空腔,所述放置盒为多层结构,所述放置盒外侧设置有多组喷气组件;
所述喷气组件上设置有与放置盒上每层晶圆对应设置的喷嘴,所述放置盒上端设置有电动升降装置,所述电动升降装置设置有调速装置。
作为本实用新型进一步的方案:所述喷气组件至多为六组。
作为本实用新型再进一步的方案:所述主体上设置有进出料口。
作为本实用新型再进一步的方案:所述电动升降装置包括步进电机。
作为本实用新型再进一步的方案:所述调速装置为变频器。
作为本实用新型再进一步的方案:所述喷嘴内部设置有流道,所述喷嘴向外喷气开口处设置有封盖,所述封盖通过弹簧安装在流道内部。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:电动升降装置在电机的控制下运行平稳,避免晶圆或载体晃动而引起的晶圆和承载物之间的滑动,进而引起颗粒过高或者晶圆和槽边的摩擦导致晶圆损伤;保证各路气体都能准确的对准晶圆;设置封盖,在不进行喷气时封盖将喷嘴开口处关闭,防止沉积液进入至喷嘴中,影响下次原子层沉积。本实用新型保证了晶圆的沉积质量。
附图说明
图1为原子层沉积设备的结构示意图。
图2为图1中A-A向视图。
图3为原子层沉积设备中喷嘴的结构示意图。
图中:主体-1、进出料口-2、电动升降装置-3、电机-4、调速装置-5、放置盒-6、喷气组件-7、喷嘴-8、流道-81、封盖-82、弹簧-83。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例1
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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