[实用新型]一种原子层沉积设备用金属盒及原子层沉积设备有效
申请号: | 201920063121.9 | 申请日: | 2019-01-15 |
公开(公告)号: | CN209276630U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 郑锦;王新朋;刘兵武 | 申请(专利权)人: | 南京原磊纳米材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种原子层沉积设备用金属盒,涉及原子层沉积技术领域;包括多个通气管,所述通气管相邻两根设置有横杆,所述通气管内侧阵列设置有多个通气孔,所述通气管底部设置有进气口,所述通气管为中空结构。本实用新型除了承载晶圆的功能外,还包括气体流出供给,合二为一,气路设计更简单,实用可靠;减少了原子层沉积设备气管的数量,同时保证了充气的效果,气路的各自分开,完全杜绝了不相容气体的互相污染。 | ||
搜索关键词: | 通气管 原子层沉积设备 本实用新型 金属盒 气路 进气口 原子层沉积技术 阵列设置 中空结构 不相容 通气孔 横杆 充气 晶圆 气管 流出 承载 污染 保证 | ||
【主权项】:
1.一种原子层沉积设备用金属盒,包括多根通气管(1),所述通气管(1)相邻两根设置有横杆(2),其特征在于,所述通气管(1)内侧阵列设置有多个通气孔(3),所述通气管(1)底部设置有进气口(5),所述通气管(1)为中空结构。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的