[实用新型]一种原子层沉积设备用金属盒及原子层沉积设备有效
申请号: | 201920063121.9 | 申请日: | 2019-01-15 |
公开(公告)号: | CN209276630U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 郑锦;王新朋;刘兵武 | 申请(专利权)人: | 南京原磊纳米材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 通气管 原子层沉积设备 本实用新型 金属盒 气路 进气口 原子层沉积技术 阵列设置 中空结构 不相容 通气孔 横杆 充气 晶圆 气管 流出 承载 污染 保证 | ||
本实用新型公开了一种原子层沉积设备用金属盒,涉及原子层沉积技术领域;包括多个通气管,所述通气管相邻两根设置有横杆,所述通气管内侧阵列设置有多个通气孔,所述通气管底部设置有进气口,所述通气管为中空结构。本实用新型除了承载晶圆的功能外,还包括气体流出供给,合二为一,气路设计更简单,实用可靠;减少了原子层沉积设备气管的数量,同时保证了充气的效果,气路的各自分开,完全杜绝了不相容气体的互相污染。
技术领域
本实用新型涉及原子层沉积技术领域,具体是一种原子层沉积设备用金属盒及原子层沉积设备。
背景技术
原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。
现有的晶圆金属盒只是用来垂直装载晶圆,原子层沉积设备的气体是通过另外的复杂渠道流向晶圆的上表面,每次跑完工艺后,金属盒需要做翻转运功,从而增加了晶圆的滑动和摩擦引起的颗粒风险。因此需要一种能够避免此类风险的解决方案。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种原子层沉积设备用金属盒及原子层沉积设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下一种技术方案:
一种原子层沉积设备用金属盒,包括多根通气管,所述通气管相邻两根设置有横杆,所述通气管内侧阵列设置有多个通气孔,所述通气管底部设置有进气口,所述通气管为中空结构。
作为本实用新型进一步的方案:所述多根通气管之间相互不连通。
作为本实用新型再进一步的方案:所述通气管上通气孔从上到下孔径逐渐变小。
作为本实用新型再进一步的方案:所述多根通气管顶部通过支撑杆相互连接。
本实用新型提供另一种技术方案:
一种原子层沉积设备,其包括上述原子层沉积设备用金属盒。
作为本实用新型再进一步的方案:所述原子层沉积设备底部设置有与通气管上的进气口配合的突出导管。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型除了承载晶圆的功能外,还包括气体流出供给,合二为一,气路设计更简单,实用可靠;减少了原子层沉积设备气管的数量,同时保证了充气的效果,气路的各自分开,完全杜绝了不相容气体的互相污染,保证工艺质量;气路的流出直接流向晶圆的上表面,避免了气体的其他复杂流向的浪费,并能提高工艺速度;朝向晶圆上表面的喷嘴大小可以根据金属糟上晶圆片的位置进行调节,保证瞬时气体流量平均分配到每片晶圆,这样可以更好地控制批量晶圆的工艺均匀性;通气孔朝向离子源,可让离子均匀有效地在工艺反应时布满每一片晶圆的表面;在自动化工艺生产时,本实用新型无需翻转,避免了晶圆由于翻转滑动摩擦而产生的颗粒。
附图说明
图1为原子层沉积设备用金属盒的结构示意图。
图中:通气管-1、横杆-2、通气孔-3、支撑杆-4、进气口-5。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例1
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的