[发明专利]磁铁底座、霍尔离子源以及磁铁热保护装置在审

专利信息
申请号: 201911423852.0 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111128647A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 刘伟基;冀鸣;赵刚;易洪波;曾文华;刘运鸿;吴秋生 申请(专利权)人: 中山市博顿光电科技有限公司
主分类号: H01J27/14 分类号: H01J27/14;H01J27/02
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 刘延喜
地址: 528400 广东省中山市火*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及一种磁铁底座,包括一水冷外罩;该水冷外罩两端分别设有上密封环和下密封环;所述上密封环用于连接在霍尔离子源的上盖板,所述下密封环用于连接霍尔离子源的底板;所述水冷外罩内部为中空设计,所述水冷外罩内部的空间内用于安装磁铁;所述水冷外罩在安装磁铁的空间周围布置有水路进行包裹;所述水冷外罩还设有所述水路的进水口和出水口;所述水冷外罩用于隔离外部热辐射传递到内部的磁铁上,并且通过所述水路对所述磁铁进行水冷散热。该方案减少了外部环境热辐射对磁铁的影响,防止了由于热辐射导致磁铁的磁性衰减的风险。另外,本申请还提供了一种霍尔离子源以及磁铁热保护装置,使得阳极的冷却结构更加简单,维护更加方便。
搜索关键词: 磁铁 底座 霍尔 离子源 以及 保护装置
【主权项】:
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