[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头在审
| 申请号： | 201911411261.1 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN113118969A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 赵德文;刘远航;王宇;孟松林 | 申请（专利权）人： | 清华大学;华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32;B24B37/005;B24B37/013;B24B49/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种用于化学机械抛光的承载头，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，平衡架的中轴部滑动密封地设置于连轴盘的中心通孔内并可以通过其底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜具有用于划分压力腔室的边缘皱壁和至少一个内皱壁，并且所述边缘皱壁及最内侧的内皱壁中的至少一个被所述环状压盘气密地直接夹紧至承载盘以形成可调压的腔室，使得可以通过控制平衡架的水平位置和压力腔室的压力来调节施加于基板的压力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 承载 | ||
【主权项】：
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