[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的承载头，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，平衡架的中轴部滑动密封地设置于连轴盘的中心通孔内并可以通过其底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜具有用于划分压力腔室的边缘皱壁和至少一个内皱壁，并且所述边缘皱壁及最内侧的内皱壁中的至少一个被所述环状压盘气密地直接夹紧至承载盘以形成可调压的腔室，使得可以通过控制平衡架的水平位置和压力腔室的压力来调节施加于基板的压力。

2.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述边缘皱壁沿所述柔性膜上表面竖直向上延伸，所述内皱壁沿所述柔性膜上表面向上延伸，所述边缘侧壁与所述内皱壁同心地设置。

3.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述边缘皱壁具有从其顶端水平朝径向内侧延伸的环状的第一水平延伸部并且所述第一水平延伸部在其自由端具有环状的第一密封凸起，并且所述内皱壁具有从其顶端水平径向延伸的环状的第二水平延伸部并且所述第二水平延伸部在其自由端具有环状的第二密封凸起。

4.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第一水平延伸部的与第一密封凸起相邻的一部分和所述第一密封凸起一起被所述环状压盘的上部外边缘部气密地夹紧固定至所述承载盘的下表面。

5.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第二水平延伸部的与第二密封凸起相邻的一部分和所述第二密封凸起一起被所述环状压盘的上部内边缘部气密地夹紧固定至所述承载盘的下表面。

6.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述环状压盘的上表面和/或边缘具有用于容置所述第二密封凸起的第二定位夹紧结构。

7.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述环状压盘的上表面和/或边缘具有用于容置所述第一密封凸起的第一定位夹紧结构。

8.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述内皱壁向上延伸的竖直高度小于所述边缘皱壁的竖直高度。

9.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第一水平延伸部和所述第二水平延伸部的长度不同。

10.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第一密封凸起和所述第二密封凸起表面具有用于增强夹紧效果并且防止黏连的粗糙结构。

11.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述柔性膜除所述第一密封凸起和所述第二密封凸起以外的其他部分均涂覆有疏水性材料。

12.如权利要求11所述的承载头，其特征在于，所述疏水性材料为派瑞林C粉。

13.一种化学机械抛光设备，其特征在于，所述化学机械抛光设备包括如权利要求1至12中任意一项所述的承载头。