[发明专利]电化学抛光液回收装置与方法在审
申请号: | 201911410727.6 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN113122905A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 吴雷;李凯强;金一诺;吴均;王坚;王晖 | 申请(专利权)人: | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C25F7/02 | 分类号: | C25F7/02;C25F3/22 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种电化学抛光液回收装置与方法,该装置包括:上方设有开口的电解槽,用于容纳抛光液;包括电极板的极板组件;电极板包括阴极板和阳极板,分别连接直流电源;电极板在电解时浸入抛光液并沉积固态物质;包括刮刀的刮刀组件,用于刮除固态物质;用于驱动刮刀与电极板相对移动的驱动组件,使刮刀从电极板刮除固态物质;包括网兜的过滤组件,网兜对电极板进行包围隔离,用于过滤固态物质。本发明通过引入驱动、刮刀和过滤等组件,使析出金属在完成电解过程后,在从电解槽中取出时自动被刮所刮除并收集于网兜中。本发明避免了析出金属对抛光液的二次污染,解决了析出金属的快捷回收问题,提升了作业效率。 | ||
搜索关键词: | 电化学 抛光 回收 装置 方法 | ||
【主权项】:
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