[发明专利]一种吡咯基酮光引发体系及应用有效
| 申请号： | 201911401654.4 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN111072796B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 聂俊;汤立群;朱晓群;李三保 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学;安庆北化大科技园有限公司 |
| 主分类号： | C08F2/50 | 分类号： | C08F2/50;C08G59/68;G03F7/004;C07D207/333;C07D405/06;C07D409/06;C07F17/02 |
| 代理公司： | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 | 代理人： | 叶濛濛 |
| 地址： | 100028 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种吡咯基酮光引发体系，涉及光引发体系技术领域，包括光敏剂和光引发剂，光敏剂为吡咯基酮，光引发剂为鎓盐类。本发明还提供上述光引发体系在涂料、油墨、胶粘剂、光刻胶、3D打印中的应用。本发明的有益效果在于：光敏剂吡咯基酮通过吸收长波长的光，敏化鎓盐类阳离子光引发剂并产生自由基、阳离子。由于吡咯基酮具有较宽的吸收光谱，因此该体系可匹配不同波段的LED灯源或汞灯引发自由基、阳离子光聚合。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 吡咯 基酮光 引发 体系 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学;安庆北化大科技园有限公司，未经北京化工大学;安庆北化大科技园有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911401654.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
