[发明专利]一种吡咯基酮光引发体系及应用

权利要求书

1.一种吡咯基酮光引发体系，其特征在于：包括光敏剂和光引发剂，所述光敏剂为吡咯基酮，所述光引发剂为鎓盐类；

所述吡咯基酮的结构通式如下所示：

其中，R_1-30取代基团为-C_nH_n+1或H或卤素取代基:-F、-Cl、-Br、-I；或含O的取代基：-CHO、-COOH、-OH、-CH₂OCH₃；或含N的取代基-NH₂、-NO₂、-CN，或含S的取代基：-HS、-SO₃H或芳烃，烯烃，炔烃整链或支链。

2.根据权利要求1所述的吡咯基酮光引发体系，其特征在于：所述R₅、R₉、R₁₅、R₂₀还具有以下基团：

3.根据权利要求1所述的吡咯基酮光引发体系，其特征在于：所述吡咯基酮的反应式如下：

4.根据权利要求1所述的吡咯基酮光引发体系，其特征在于：所述吡咯基酮的制备方法包括以下步骤：将无α-H的醛和含有α-H的酮类物质加入有机试剂中，使用弱碱为催化剂，在氮气气氛中避光进行加热反应后，采用冰水浴静置10min，析出淡黄色粗产物，采用去离子水洗涤粗产物后真空干燥，使用有机溶剂溶剂重结晶得到产物。

5.根据权利要求1所述的吡咯基酮光引发体系，其特征在于：所述鎓盐类包括碘鎓盐类或硫鎓盐类。

6.根据权利要求4所述的吡咯基酮光引发体系，其特征在于：在氮气气氛中避光于50-60℃加热反应1h。

7.根据权利要求4所述的吡咯基酮光引发体系，其特征在于：所述弱碱为1mol/L的NaOH水溶液或醇钠水溶液。

8.根据权利要求1所述的吡咯基酮光引发体系，其特征在于：所述光敏剂与光引发剂的质量比为0.5-5:1-10。

9.一种采用权利要求1-8中任一项所述的吡咯基酮光引发体系在涂料、油墨、胶粘剂、光刻胶、3D打印中的应用。