[发明专利]一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置在审
申请号: | 201911395588.4 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN111121614A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 贾治国;方扬扬;黄朋杰;刘红 | 申请(专利权)人: | 河南中原光电测控技术有限公司 |
主分类号: | G01B9/02 | 分类号: | G01B9/02;G01B11/27;G01B11/02 |
代理公司: | 郑州泽创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 41159 | 代理人: | 杨会军 |
地址: | 450000 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明涉及光学技术领域,具体为一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置,应用于精密定位平台的直线度误差检测和直线位移测量,激光器射出准直光束经过扩束系统后,中心光束由滤波片接收,经过滤波片滤波后的光束经分光平板分为两部分,一部分为参考光,参考光经过四分之一波片后入射至反光镜后原路返回,再经过四分之一波片后经过分光平板后发生透射,后经偏振片,偏振片的透振方向与水平方向成45°;另一部分为测量光,测量光经分光平板后透射部分经过四分之一波片后再经圆锥透镜后发生转角,转角后入射至圆锥面反射镜后原路返回,再次经过圆锥透镜和四分之一波片发生反射,后经偏振片,与参考光发生干涉。 | ||
搜索关键词: | 一种 二维 直线 位移 同时 测量 干涉 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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