[发明专利]一种磁路可控式真空阴极电弧离子源有效

专利信息
申请号: 201911353751.0 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN111139438B 公开(公告)日: 2022-01-21
发明(设计)人: 蒋钊;肖更竭;周晖;赵栋才;杨拉毛草;许戩;张延帅;贵宾华 申请(专利权)人: 兰州空间技术物理研究所
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 温子云
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种磁路可控式真空阴极电弧离子源,包括电弧离子源壳体,电弧离子源壳体内安装阴极靶座、阴极靶和磁铁,且阴极靶固定于阴极靶座;电弧离子源壳体外壁安装磁轭;所述磁轭由具有顶面的圆筒形磁轭A和圆环形磁轭B组成;磁轭B装在磁轭A内部,且二者接触;磁轭A与电弧离子源壳体之间为自由公差配合,可沿电弧离子源壳体滑动。该弧源的磁轭位置可以调整,通过调整磁轭位置可以调节阴极靶面的磁场强度,并可同步优化阴极靶面的磁场位形分布。
搜索关键词: 一种 磁路 可控 真空 阴极 电弧 离子源
【主权项】:
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