[发明专利]一种磁路可控式真空阴极电弧离子源有效

专利信息
申请号: 201911353751.0 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN111139438B 公开(公告)日: 2022-01-21
发明(设计)人: 蒋钊;肖更竭;周晖;赵栋才;杨拉毛草;许戩;张延帅;贵宾华 申请(专利权)人: 兰州空间技术物理研究所
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 温子云
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁路 可控 真空 阴极 电弧 离子源
【权利要求书】:

1.一种磁路可控式真空阴极电弧离子源,包括电弧离子源壳体(6),电弧离子源壳体(6)内安装阴极靶座(1)、阴极靶(7)和磁铁(2),且阴极靶(7)固定于阴极靶座(1);电弧离子源壳体(6)外壁安装磁轭;其特征在于,所述磁轭由具有顶面的圆筒形磁轭A(5)和圆环形磁轭B(3)组成;磁轭B(3)装在磁轭A(5)内部,且二者接触;磁轭A(5)与电弧离子源壳体(6)之间为自由公差配合,可沿电弧离子源壳体滑动。

2.如权利要求1所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于,通过调节磁轭A(5)的位置,使得磁轭A(5)顶面外表面与阴极靶(7)的靶面在同一水平面上。

3.如权利要求1所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于,磁轭B(3)位置与磁铁(2)尽量靠近。

4.如权利要求1所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于,磁轭B(3)位置固定或可沿电弧离子源壳体滑动。

5.如权利要求1所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于,阴极靶座(1)采用直冷冷却:阴极靶座的上表面开设有凹槽(9),在阴极靶座本体且位于凹槽下方开设冷水供应通道(12)和冷水回流通道(13);所述凹槽内固定安装环状磁铁(2),环状磁铁(2)的中心孔与冷水供应通道(12)连通;环状磁铁(2)与凹槽内侧壁之间留有间隙,间隙位置处的凹槽底部沿圆周均匀开设与冷水回流通道(13)连通的多个回流孔(14);阴极靶(7)通过密封圈(4)与所述阴极靶座(1)密封连接,从而在所述阴极靶(7)下表面与所述环状的磁铁(2)之间形成水冷内腔(8)。

6.如权利要求5所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于,阴极靶座(1)的凹槽(9)的下方为中空结构,中空结构内安装冷却剂输送管道作为所述冷水供应通道(12);阴极靶座(1)下表面开设两个开口,分别作为冷却水的入口和出口;其中入口通过所述冷却剂输送管道与环状磁铁(2)的中心孔相连通。

7.如权利要求1所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于,所述阴极靶(7)与所述阴极靶座(1)之间通过固定件进行螺纹连接。

8.如权利要求1所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于,所述电弧离子源壳体(6)上带有长度的刻度标识,用于度量磁轭A在电弧离子源壳体上的位置。

9.如权利要求8所述的磁路可控式真空阴极电弧离子源,其特征在于:所述刻度标识的最小单元为0.5mm。

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