[发明专利]一种干法转印光刻胶制备微纳结构的方法有效
| 申请号： | 201911339879.1 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN111115564B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 段辉高;刘卿;陈艺勤;舒志文 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 | 代理人： | 王翀;阳江军 |
| 地址： | 410082 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种干法转印光刻胶制备微纳结构的方法。本发明通过对衬底进行修饰以降低光刻胶与衬底的粘附力，然后在光刻胶上曝光并显影得到所需的结构，再利用黏贴层选择性的把光刻胶从衬底上剥离，把剥离下来的光刻胶转移释放到所需要的衬底上，然后镀金属并lift‑off处理，本发明突破了传统加工对衬底材料，形状和尺寸的限制，可实现任意衬底上微纳结构的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干法转印 光刻 制备 结构 方法 | ||
【主权项】：
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