[发明专利]季铵盐化合物在制备抑制化学镀渗镀的组合物中的应用以及金属层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911314282.1 申请日: 2019-12-19
公开(公告)号: CN110983305B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 黎小芳;李小兵;陈光辉;万会勇;席道林;郭志伟 申请(专利权)人: 广东东硕科技有限公司
主分类号: C23C18/18 分类号: C23C18/18;C23C18/31
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 秦冉冉
地址: 510280 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种季铵盐化合物在制备抑制化学镀渗镀的组合物中的应用以及金属层的制备方法。该季铵盐化合物具有通式(Ⅰ)所示的结构,使得季铵盐化合物能够和钯离子在金属基底的边缘和拐角处产生竞争性的吸附,减少钯单质在金属基底的边缘和拐角处的沉积,从而抑制渗镀现象的发生。同时,氮原子带正电,呈缺电子状态,会吸附金属基底的边缘和拐角处与钯离子抢夺电子,抑制钯单质在金属基底的边缘和拐角处沉积,进一步抑制渗镀现象的发生。
搜索关键词: 铵盐 化合物 制备 抑制 化学 镀渗镀 组合 中的 应用 以及 金属 方法
【主权项】:
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