[发明专利]用于化学机械平坦化设备的抛光头压力控制设备及方法有效
| 申请号： | 201911303301.0 | 申请日： | 2019-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN110883680B | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 蔡宁远;朱铭 | 申请（专利权）人： | 杭州众硅电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;包姝晴 |
| 地址： | 311305 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种用于化学机械平坦化设备的抛光头压力控制设备及方法，在控制阀的出口气路上设置第一压力传感器，在气囊容腔的进口气路上设置第二压力传感器，控制器根据第一压力传感器和第二压力传感器反馈的压力值进行实时闭环运算，调节控制阀的开度，调节气囊容腔中的气体压力。本发明能够快速响应且精确控制抛光头气囊容腔的压力，避免充气阶段控制阀出口压力虚高，确保高精度和低误差压力控制，实现对抛光头气囊容腔压力的稳定控制。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 平坦 设备 抛光 压力 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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