[发明专利]研磨系统在审
| 申请号： | 201911260214.1 | 申请日： | 2019-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN110877287A | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 夏文羽 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种研磨系统，述研磨系统包括：研磨垫、监控装置及基座，所述监控装置包括：相连的检测单元及报警单元，所述检测单元设置于所述研磨垫中且与所述研磨垫的用于研磨的第一表面具有间距，在所述研磨垫中增设所述检测单元，且使得所述检测单元与所述研磨垫的第一表面保持适当间距，当处于工作状态的研磨垫出现磨损或破洞缺陷时，所述研磨系统可以通过所述检测单元及时并有效地监控到研磨垫的磨损或破洞缺陷，使得存在磨损或破洞缺陷的研磨垫能够被及时更换掉，从而避免了批量生成的产品被异常研磨的情况，提高了批量产品的良率，变相地节省了原材料以及机台资源。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 系统 | ||
【主权项】：
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