[发明专利]一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构及方法有效
| 申请号： | 201911247612.X | 申请日： | 2019-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN111081389B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 黄明;孙震;钱玉忠;徐伟;孟献才;李成龙;韦俊;庄会东;左桂忠;胡建生 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | G21B1/11 | 分类号： | G21B1/11 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明 |
| 地址： | 230031 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构及方法，包括有第一连接件、第二连接件、第三连接件、收集器、第一引导口、第二引导口、第一引导管、第二导管、带刻度的直线导入器、抽气管道、抽气阀、抽气机组和插板阀；这些组件协同装配，精确高效地向等离子体中注入杂质颗粒。本发明既可以收集杂质注入分配系统测试时坠落的杂质颗粒(粉末)，实现重复利用，减少浪费；又可以保护了插板阀的密封性能，有效地延长插板阀的使用寿命；还可以提高杂质颗粒(尤其粉末状)注入系统的注入量的精确性。本发明提供了一种操作简单，节能高效，精确度高的杂质颗粒(粉末)注入的过度机构，为未来聚变堆中杂质注入的成功应用提供良好的技术基础。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 聚变 装置 等离子体 杂质 注入 机构 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院合肥物质科学研究院，未经中国科学院合肥物质科学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911247612.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型钢管穿孔顶头及其制作方法
- 下一篇：一种业务参数配置方法
