[发明专利]一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构及方法

权利要求书

1.一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：包括有第一连接件、第二连接件、第三连接件、收集器、第一引导口、第二引导口、第一导管、第二导管、带刻度的直线导入器、抽气管道、抽气阀、抽气机组和插板阀；

所述的第一连接件位于上方，第一连接件的上、下两端分别与杂质注入分配系统和带刻度的直线导入器连接，第一连接件中部开孔焊接收集器；所述的第一引导口的大、小口分别焊接在第一连接件下端法兰内壁和第一导管上；

所述的第二连接件位于中间，第二连接件的上、下两端分别与带刻度的直线导入器和插板阀连接，第二连接件中部开孔焊接抽气管道，通过抽气阀接上抽气机组；

所述的第三连接件位于下方，上、下两端分别与插板阀和聚变装置连接，所述的第二引导口的大、小口分别焊接在第三连接件上端法兰内壁和第二导管上，引导杂质颗粒、粉末顺利注入聚变装置，与等离子体融合。

2.根据权利要求1所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的第一连接件是在φ55×100mm，壁厚2mm的SUS316无缝管两端分别焊接CF50和CF35法兰的部件，上端CF50法兰与杂质注入分配系统对接，下端CF35法兰内侧焊接第一引导口大口，小口向下，然后与带刻度的直线导入器标尺终点侧连接；第一连接件中部开孔焊接收集器。

3.根据权利要求2所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的第一引导口为喇叭状变径SUS316管，大口φ35，小口φ26，竖直高度30mm，壁厚2mm，小口下方焊接第一导管。

4.根据权利要求3所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的第一导管是φ26×300mm，壁厚2mm的SUS316无缝管，一端与引导口小口焊接，另一端倒角15°，以便通过第二引导口插入第二导管并与之楔合。

5.根据权利要求1所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的第二连接件是在φ55×100mm，壁厚2mm的SUS316无缝管，中间开孔焊接抽气管道，两端分别焊接CF35和CF50法兰的部件，CF35法兰与带刻度的直线导入器零点侧连接，CF50法兰与插板阀一侧对接。

6.根据权利要求5所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的抽气管道是φ20×25mm，壁厚1.5mm的SUS316无缝管，一端焊接在第二连接件中部，另一端焊接CF16法兰连接抽气阀。

7.根据权利要求6所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的抽气阀是CF16转KF25的超高真空手动挡板阀，CF16法兰与抽气管道上的CF16法兰对接，KF25法兰通过波纹管与抽气机组连接。

8.根据权利要求7所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的抽气机组包括JTFB-300F型分子泵、TRP-12型机械泵和ZDF-5227AX型真空计，极限真空为2.0×10^-5Pa。

9.根据权利要求1所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的带刻度的直线导入器为LTM38-150型线性驱动，行程150mm，两端CF35法兰焊接在带有0-150mm刻度标尺的支架上，中间通过焊接波纹管连接。

10.根据权利要求1所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的第三连接件是在φ55×100mm，壁厚2mm的SUS316无缝管两端焊接CF50法兰的部件，上端CF50法兰内侧焊接第二引导口大口，小口向下，然后与插板阀对接，下端CF50法兰和聚变装置对接。

11.根据权利要求10所述的一种用于聚变装置等离子体杂质注入的机构，其特征在于：所述的第二引导口为喇叭状变径SUS316管，大口φ50，小口φ30，竖直高度30mm，壁厚2mm，小口下方焊接第二导管。