[发明专利]基于二范数约束和平滑约束的点源图像重建方法及成像仪有效

专利信息
申请号: 201911217572.4 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN111080539B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 夏彦;范鹏;马天予;杨晓宁;肖庆生;赵春晴;孙继鹏;孙宇;张显;郝放辉;刘亚强 申请(专利权)人: 北京卫星环境工程研究所
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100094 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于二范数约束和平滑约束的点源图像重建方法及相应的成像仪,所述点源图像重建方法包括:获取放射源即所述点源所发射的辐射粒子在成像仪中的探测器中分布p以及相关系统传输矩阵a;设定所述点源图像即所述放射源分布图像的初值f(0);基于二范数约束和平滑约束,对所述放射源分布图像的值f进行迭代运算,以重建所述点源图像。本发明的点源图像重建方法减少重建图像的伪影,保证图像的平滑度,提高了重建辐射图像的信噪比;本发明的成像仪能够实现高质量的重建图像。
搜索关键词: 基于 范数 约束 平滑 图像 重建 方法 成像
【主权项】:
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