[发明专利]双折射测量装置及基于该装置的寻常光、非常光测量方法有效
| 申请号： | 201911203061.7 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN112881336B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 陈小梅;张用友;钟海政;柏泽龙 | 申请（专利权）人： | 致晶科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 史冬梅 |
| 地址： | 100081 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种双折射测量装置及基于该装置的寻常光、非常光测量方法。其中双折射测量装置包括：偏振光生成单元、开设透光孔的遮光片及检偏器；偏振光生成单元设置于遮光片的入射光侧；检偏器设置于遮光片的出射光侧；遮光片与检偏器之间设置待测样品；遮光片用于遮挡偏离透光孔的入射光。本申请在待测样品的入射光侧设置了遮光片，利用遮光片遮挡偏离透光孔的入射光，使得本申请的测量装置可以测量任意尺寸的待测样品。本申请的寻常光、非常光测量方法，无需使用反射光求折射率，仅使用双折射测量装置输出的偏振光的光强，利用简单的计算公式即可获得待测样品的寻常光折射率和非常光折射率，计算公式简单，计算量小且结果精确。 | ||
| 搜索关键词： | 双折射 测量 装置 基于 寻常 非常 测量方法 | ||
【主权项】：
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