[发明专利]双折射测量装置及基于该装置的寻常光、非常光测量方法

权利要求书

1.一种双折射测量装置，其特征在于，包括：偏振光生成单元、开设透光孔的遮光片及检偏器；

所述偏振光生成单元设置于所述遮光片的入射光侧；

所述检偏器设置于所述遮光片的出射光侧，用于获取从待测样品出射的偏振光的偏振态；

所述遮光片为两个，两个所述遮光片的透光孔相对设置，所述待测样品设置于两个所述遮光片之间；

所述遮光片用于遮挡偏离透光孔的入射光。

2.根据权利要求1所述的双折射测量装置，其特征在于，所述偏振光生成单元包括热光源、滤波片及第一起偏器；

所述滤波片的入射光侧设置所述热光源，所述滤波片的出射光侧设置所述第一起偏器，经由所述第一起偏器的出射光照射于所述遮光片上。

3.根据权利要求2所述的双折射测量装置，其特征在于，所述偏振光生成单元还包括沿光路依次设置的光阑、衰减片及透镜；

所述光阑、衰减片及透镜设置于所述滤波片与所述第一起偏器之间。

4.根据权利要求1所述的双折射测量装置，其特征在于，所述偏振光生成单元包括冷光源及第二起偏器；

所述第二起偏器的入射光侧设置所述冷光源，所述第二起偏器的出射光侧设置所述遮光片。

5.根据权利要求1所述的双折射测量装置，其特征在于，所述偏振光生成单元包括激光光源及半波片；

所述半波片的入射光侧设置所述激光光源，所述半波片的出射光侧设置所述遮光片。

6.一种寻常光、非常光测量方法，其特征在于，包括：

获取权利要求1～5任一项所述的双折射测量装置输出的偏振光的光强；

获取入射至待测样品的入射光参数及待测样品的厚度d；

利用所述偏振光的光强、所述入射光参数及待测样品的厚度，计算待测样品的寻常光折射率n_o及非常光折射率n_e。

7.根据权利要求6所述的寻常光、非常光测量方法，其特征在于，所述入射光参数包括光波矢量k、光波振动方向与测量面的夹角φ。

8.根据权利要求7所述的寻常光、非常光测量方法，其特征在于，计算待测样品的寻常光折射率n_o，具体为：

其中，t_x为双折射测量装置输出的x轴偏振光的光强，i为虚数单位。

9.根据权利要求8所述的寻常光、非常光测量方法，其特征在于，计算待测样品的非常光折射率n_e，具体为：

其中，γ＝cos(φ)；t_y为双折射测量装置输出的y轴偏振光的光强。