[发明专利]一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置有效
| 申请号: | 201911194175.X | 申请日: | 2019-11-28 |
| 公开(公告)号: | CN110867360B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
| 发明(设计)人: | 朱巧芬;刘秀红;张雷;席思星 | 申请(专利权)人: | 河北工程大学 |
| 主分类号: | H01J37/02 | 分类号: | H01J37/02;H01J37/08;H01J37/147;H01J37/20;H01J37/305 |
| 代理公司: | 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 | 代理人: | 赵红霞 |
| 地址: | 056038 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置,它包括由上往下顺次设置的外壳、工作台和机箱,空心轴延伸端的顶部焊接有吸盘,电机的输出轴与空心轴之间设置有可驱动空心轴旋转的传动装置,水平管的顶部焊接有电极柱,电极柱的上端焊接有电极片,电极片与吸盘顶部的内壁接触,电极柱的下端伸入于水平管内,且延伸端上固设有导线B,导线B的延伸端处连接有第二高频电源;盖板上设置有伸入于密闭腔内的天线,天线的顶部连接有导线A,导线A的另一端连接有第一高频电源;外壳上设置有电磁阀和卸压阀,电磁阀的另一端连接有储存有气源的气瓶。本发明的有益效果是:提高蚀刻效率、提高光学器件冷却效率、自动化程度高。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 蚀刻 光学 器件 等离子体 装置 | ||
【主权项】:
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