[发明专利]OPC修正方法及OPC修正装置有效
| 申请号: | 201911189558.8 | 申请日: | 2019-11-28 | 
| 公开(公告)号: | CN112859509B | 公开(公告)日: | 2022-04-12 | 
| 发明(设计)人: | 徐进 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 | 
| 主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 | 
| 代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤;陈丽丽 | 
| 地址: | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码: | 安徽;34 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | 本发明涉及光刻技术领域,尤其涉及一种OPC修正方法及OPC修正装置。所述OPC修正方法包括如下步骤:分割目标图案的线条端,形成多个片段;选择一片段作为待处理的目标片段,并检测一目标片段所在的线条端周围预设范围内是否存其他线条端,若是,则将其他线条端作为临近线条端,并将所述目标片段所在的线条端作为目标线条端;沿平行于所述临近线条端指向所述目标线条端的方向移动所述临近线条端上的片段,以实现对所述目标图案的OPC修正。本发明使得目标图案中的多个临近线条端能够同时达到收敛,避免了多线端图形在OPC修正过程中易出现冲突的问题,改善了OPC修正效果。 | ||
| 搜索关键词: | opc 修正 方法 装置 | ||
【主权项】:
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                    G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
                
            G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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