[发明专利]OPC修正方法及OPC修正装置

说明书

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种OPC修正方法及OPC修正装置。所述OPC修正方法包括如下步骤：分割目标图案的线条端，形成多个片段；选择一片段作为待处理的目标片段，并检测一目标片段所在的线条端周围预设范围内是否存其他线条端，若是，则将其他线条端作为临近线条端，并将所述目标片段所在的线条端作为目标线条端；沿平行于所述临近线条端指向所述目标线条端的方向移动所述临近线条端上的片段，以实现对所述目标图案的OPC修正。本发明使得目标图案中的多个临近线条端能够同时达到收敛，避免了多线端图形在OPC修正过程中易出现冲突的问题，改善了OPC修正效果。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种OPC修正方法及OPC修正装置。

背景技术

半导体光刻制程过程中，由于紫外光的衍射效应，在将掩模版上的图形投影到晶圆上时，于晶圆表面形成的图案经常会发生畸变，导致最终成像质量的降低，这种现象称之为光学邻近效应(Optical Proximity Effect，OPE)。光学邻近效应引起的晶圆表面的图案畸变主要表现为线宽特征尺寸(Critical Dimension，CD)偏移、线条端部(End Of Line，EOL)变短、图案缺失或桥接(Missed Patterns Or Bridging)、角部变圆(CornerRounding)等特征。

对掩模版上的图形做适当的修改以补偿光学邻近效应造成的缺陷，从而在晶圆表面上得到和原始的掩模版上图形设计相同的图案，称之为光学邻近修正(OpticalProximity Correction，OPC)。光学邻近修正的步骤通常包括：对设计图形的外边进行解析分割(dissection)，获得用于处理的片段(segment)；在每一个片段的中心位置设置一目标点，以所述目标点作为片段运动的参考点。

对于金属互连层等关键光刻图层，由于金属线需要进行上部通孔或者下部通道的连接，因此图案通常都较为复杂，以确保金属线在通孔处或者通道处的覆盖率，避免连接失效。然而，对于金属互连层等具有多个相互临近的线端的图层，难以在避免连接失效的同时获得较佳的OPC修正轮廓。这是因为，在对具有多个线端的图形进行OPC修正的过程中，随着片段的移动，临近线端之间会出现冲突，影响整体的OCP修正结果。

因此，如何避免多线端图形在OPC修正过程中易出现冲突的问题，改善OPC修正效果，是目前亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明提供一种OPC修正方法及OPC修正装置，用于解决现有技术中OPC修正效果较差的问题。

为了解决上述问题，本发明提供了一种OPC修正方法，包括如下步骤：

分割目标图案的线条端，形成多个片段；

选择一片段作为待处理的目标片段，并检测一目标片段所在的线条端周围预设范围内是否存其他线条端，若是，则将其他线条端作为临近线条端，并将所述目标片段所在的线条端作为目标线条端；

沿平行于所述临近线条端指向所述目标线条端的方向移动所述临近线条端上的片段，以实现对所述目标图案的OPC修正。

可选的，所述预设范围为所述目标图案的3倍最小特征尺寸的范围。

可选的，沿平行于所述临近线条端指向所述目标线条端的方向移动所述临近线条端上的片段的具体步骤包括：

进行至少一次如下循环步骤，所述循环步骤包括：

沿平行于所述临近线条端指向所述目标线条端的方向移动所述临近线条端上的片段一预设步长；

判断移动后所述临近线条端的实际轮廓是否满足预设要求，若否，则统计所述临近线条端上的片段已移动的距离之和；

判断所述临近线条端上的片段已移动的距离之和是否大于预设距离，若否，则以本次所述临近线条端上的片段移动后所在的位置作为下一次循环步骤的移动起始位置。