[发明专利]衬底处理装置在审
| 申请号： | 201911183895.6 | 申请日： | 2019-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN111261547A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 桑原丈二 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 陈甜甜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够提高衬底处理装置的处理量的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备搬送空间(32)、搬送机构(34a1、34b1)及热处理部(37a1、37b1)。搬送机构(34a1、34b1)设置在搬送空间(32)中。热处理部(37a1)、搬送空间(32)及热处理部(37b1)以依序排列在宽度方向(Y)的方式配置。热处理部(37a1)具备多个热处理单元(38a1)。多个热处理单元(38a1)以排列在前后方向的方式配置。热处理部(37b1)具备多个热处理单元(38b1)。多个热处理单元(38b1)以排列在前后方向的方式配置。搬送机构(34a1)将衬底(W)搬送到热处理单元(38a1)。搬送机构(34b1)将衬底(W)搬送到热处理单元(38b1)。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 处理 装置 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
