[发明专利]一种大高宽比微结构的光学检测方法有效
| 申请号: | 201911178380.7 | 申请日: | 2019-11-27 |
| 公开(公告)号: | CN110926362B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
| 发明(设计)人: | 刘刚;魏文彬;熊瑛;侯双月;田扬超 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
| 主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明 |
| 地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种大高宽比微结构的光学检测方法,通过观察不同微结构对入射光的不同反射情况,无损检测微结构的侧壁形貌,快速地判断大高宽比微结构是否发生倾斜、扭曲。本发明可以对光刻胶和金属微结构的侧壁形貌进行无损检测,也可以对光刻胶与金属共存的微结构侧壁形貌进行无损检测。本发明中采集的是高衬度的图像,结合样品工作台的快速扫描,可以实现对大尺寸样品的快速检测。本发明可以对工艺过程中的样品进行检测,能够实现样品的原位工况检测。本发明中侧壁倾角检测精度与选择的物镜相关,物镜的放大倍数越高可以提供越高的侧壁倾角检测精度,通常的,可以实现0.1°的侧壁倾角检测精度。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 大高宽 微结构 光学 检测 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学,未经中国科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911178380.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。





