[发明专利]一种大高宽比微结构的光学检测方法

权利要求书

1.一种大高宽比微结构的光学检测方法，其特征在于：包括如下步骤：

步骤一、搭建光学检测系统，光学检测系统包括样品工作台，可见光光源，准直镜系统，照相系统，角度调节机构，样品工作台置于最下方，用于放置样品，可以实现样品的倾斜、旋转和快速扫描；可见光光源系统置于被检测样品的上方，用于提供照明；准直镜系统置于可见光光源前端，用于使光源变成平行光，提供检测用的入射平行光；照相系统置于反射光出射位置，用于接受反射光；角度调节机构置于平行光源系统以及照相系统处，用于调节入射光角度和适应出射光角度；

步骤二、一束入射光沿着微结构长度方向入射，在光线出射位置放置一台相机来观测光线的反射情况，光线从微结构一端入射到光刻胶里，到达基底表面反射回来，再从光刻胶表面某一点出射，由于从微结构一端至该点区域没有光线出射，所以在相机上观察到该区域是暗的；而该点至微结构另一端区域有出射光线，所以在相机上观察到此区域是亮的，整个微结构就会出现一端亮一端暗的现象，理想的大高宽比微结构侧壁是陡直的，入射光可以从基底反射出去，整个微结构会呈现非常特征的一端亮一端暗，明亮条纹的宽度与微结构线宽一致；如果大高宽比微结构侧壁是倾斜的，出射光线的分布受到微结构侧壁的影响，会使出射光线重新分布，整个微结构仍然会呈现非常特征的一端亮一端暗，但明亮条纹的宽度小于微结构线宽。

2.根据权利要求1所述的一种大高宽比微结构的光学检测方法，其特征在于：所述样品工作台是多轴位移台，可以实现样品的倾斜、旋转和快速扫描，结合计算机自动识别和数据处理，可以实现对大尺寸样品的快速检测。

3.根据权利要求1所述的一种大高宽比微结构的光学检测方法，其特征在于：所述照相系统采用的是长工作距离物镜进行光学放大，工作距离的范围为10-100毫米；物镜的放大倍数越高可以提供越高的侧壁倾角检测精度，可以实现0.1°的侧壁倾角检测精度。

4.根据权利要求1所述的一种大高宽比微结构的光学检测方法，其特征在于：所述样品是片状大高宽比微结构或者是由片状微结构组成的大高宽比微结构，样品是光刻胶、金属或光刻胶与金属共存的微结构。

5.根据权利要求1所述的一种大高宽比微结构的光学检测方法，其特征在于：所述样品可以处于不同介质中，该方法可以对工艺过程中的样品进行检测，能够实现样品的原位工况检测。