[发明专利]深紫外LED结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201911105192.1 申请日: 2019-11-12
公开(公告)号: CN110808320B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 汪莱;刘洋;郝智彪;罗毅 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/14;H01L33/06;H01L33/04;H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 喻颖
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种深紫外LED结构及其制作方法,其中深紫外LED结构包括:深紫外AlGaN外延结构,包含:p型AlGaN层;n型Ga2O3纳米薄膜,位于所述深紫外AlGaN外延结构的上表面;其中,所述n型Ga2O3纳米薄膜与所述p型AlGaN层形成隧穿结,作为表面电极接触层及空穴供给层。通过利用n型Ga2O3纳米薄膜与p型AlGaN层形成隧穿结,一方面该隧穿结作为空穴供给层提高了空穴浓度,另一方面该隧穿结作为表面电极接触层,与表面电极形成良好的欧姆接触,从而提高了深紫外LED的外部量子效率,同时n型Ga2O3纳米薄膜对深紫外波段的光有较高的透过率,不会对LED产生的光进行吸收。
搜索关键词: 深紫 led 结构 及其 制作方法
【主权项】:
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