[发明专利]一种基于微结构的LCoS微显示器芯片的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于微结构的LCoS微显示器芯片的制备方法，属于液晶光学技术领域。该LCoS光调制器包括硅基底片1、块状电极反射层2、PI取向层3、光刻胶4、间隔子5、上玻璃板6、透明平面电极层7、液晶8、封框胶9、偏振片10。本发明根据电极反射层的块状电极结构为模板制作光刻掩模板，再利用电极反射层对光线进行反射的原理对光刻胶进行对准操作，然后进行曝光显影操作，使得块状电极间隙的光刻胶得到保留，形成聚合物凸起微结构。在像素间隔光刻出的聚合物凸起微结构能够有效消除普通LCoS显示器中边缘场对相邻像素的串扰。在液晶显示、液晶相控等领域有潜在应用。

主权项

1.一种基于微结构的LCoS微显示器芯片的制备方法，其特征在于：/n步骤1、在硅基底片上采用CMOS工艺形成方形像素电极，然后用抛光工艺使电极层形成电极反射层；/n步骤2、在上玻璃板的下表面溅射透明平面电极；/n步骤3、分别对步骤1和步骤2制作好的硅基底片和平面电极玻璃基板进行清洗干燥；/n步骤4、分别在硅基底片的上表面和平面电极玻璃基板的下表面旋涂PI取向液，完成取向后标记取向方向（取向）；/n步骤5、在硅基底片的取向层上旋涂上光刻胶（涂胶）；/n步骤6、将涂有光刻胶的片子放在平板加热台上烘干水份（前烘）；/n步骤7、掩模板图案对准后对光刻胶进行紫外光曝光（曝光）；/n步骤8、将曝光后的片子放在平板加热台上进行后烘处理（后烘）；/n步骤9、将后烘结束的片子冷却后再在紫外光下进行全面曝光（全面曝光）；/n步骤10、用对应的光刻胶显影液对光刻胶进行显影（显影）；/n步骤11、清洗片子上的显影液，吹干后放在平板加热台上高温坚膜，得到微结构（坚膜）；/n步骤12、将处理后的硅基底片与上玻璃板制作成空的液晶盒，灌满液晶后密封（制盒灌晶）；/n步骤13、在液晶盒的上表面贴上一层偏振片，完成LCoS微显示器芯片的制作。/n