[发明专利]一种自激发可存储式光电导器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911061486.9 申请日: 2019-11-01
公开(公告)号: CN110828609B 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 姜昱丞;贺安鹏 申请(专利权)人: 苏州科技大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/032;H01L31/0749
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种自激发可存储式光电导器件及其制备方法。本发明以单晶STO衬底为绝缘氧化物,经离子束轰击后,其表层将形成纳米导电薄层——表面电子气SSEG,为N型半导体;WSe2为P型二维半导体材料,层与层之间靠范德瓦尔斯力结合在一起,形成二硒化钨和钛酸锶表面电子气及其PN结,具有结构简单、光电效率高、可存储的特点,可实现光生电子空穴对的存储,获得无限寿命的光生载流子;其工作过程自激励、外量子效率高且结构简单,可用于纳米能源器件领域。
搜索关键词: 一种 激发 存储 电导 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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