[发明专利]一种用于台面器件的高涂布均匀性负性光刻胶组合物有效
| 申请号： | 201911044928.9 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN110824843B | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 马骥 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/008 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 杨文文 |
| 地址： | 215100 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于台面器件的高涂布均匀性负性光刻胶组合物，包括环化聚异戊二烯：重均分子量范围为20W~30W，分子量分布Mw/Mn范围为1.0～2.0，环化率55%~85%；环化聚丁二烯：重均分子量范围为2W~4W，分子量分布Mw/Mn范围为1.2～2.4，环化率60%~80%；光敏剂：所述光敏剂为2，6‑二[（4‑叠氮基苯基）亚甲基]‑4‑甲基‑环己酮；偶联剂。该组合物有效保护台面芯片各个位置的衬底，不出现腐蚀钻蚀问题且不出现浮胶、显影不净等质量异常问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 台面 器件 高涂布 均匀 性负性 光刻 组合 | ||
【主权项】：
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