[发明专利]一种用于硅基红外气体传感器的硅基气室有效
| 申请号： | 201911042266.1 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN110658149B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 邢朝洋;朱政强;刘欢;崔尉;胡志响;严棋;翟博慧 | 申请（专利权）人： | 北京航天控制仪器研究所;华中科技大学 |
| 主分类号： | G01N21/3504 | 分类号： | G01N21/3504;G01N21/03 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 100094 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于硅基红外气体传感器的硅基气室，属于红外气体传感器领域，具体包括上层硅片和下层硅片；上层硅片和下层硅片通过键合方式连接；上层硅片包括红外光源窗口和红外探测器窗口；下层硅片上设置气室腔体和气体扩散槽；红外光源窗口和红外探测器窗口为贯穿上层硅片的通孔；气室腔体为棱台型结构；气体扩散槽位于下层硅片与上层硅片交界面的四周；棱台型两端的斜面为反射面，气室腔体与上层硅片的下表面反射面构成红外光的反射腔室；气体扩散槽用于使外界气体进入气室腔体的内部。本发明公开的硅基气室便于与红外光源、探测器和其他电路模块在外部集成，提高集成设计自由度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 红外 气体 传感器 硅基气室 | ||
【主权项】：
1.一种用于硅基红外气体传感器的硅基气室，其特征在于，包括上层硅片(1)和下层硅片(2)；所述上层硅片(1)和所述下层硅片(2)通过键合方式连接；/n所述上层硅片(1)包括红外光源窗口(101)和红外探测器窗口(102)；所述下层硅片(2)上设置气室腔体(201)和气体扩散槽(202)；/n所述红外光源窗口(101)和所述红外探测器窗口(102)为贯穿所述上层硅片(1)的通孔；所述气室腔体(201)为棱台型结构；所述气体扩散槽(202)位于所述下层硅片(2)与所述上层硅片(1)交界面的四周；/n所述红外光源窗口(101)用于接收红外光；所述红外探测器窗口(102)用于发散通过所述气室腔体(201)的红外光；棱台型两端的斜面为反射面，所述气室腔体(201)与所述上层硅片(1)的下表面反射面构成红外光的反射腔室；所述气体扩散槽(202)用于使外界气体进入所述气室腔体(201)的内部。/n
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