[发明专利]掩膜片、掩膜板及其制备方法有效
| 申请号： | 201911012834.3 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN110724905B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 曾佳;陈奎;贺雪英;曹东旭;张雷 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H10K71/16;H10K71/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 佘新育 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜片、掩膜板及其制备方法，涉及显示技术领域，能够提高掩膜板的蒸镀效果。其中的掩膜板，包括框架、以及跨设在框架上的多个掩膜片。掩膜片包括主体部、第一拼接部和第二拼接部，第一拼接部和第二拼接部位于主体部沿掩膜片的宽度方向的两侧；主体部设有多个第一像素孔。第一拼接部和第二拼接部的厚度之和等于主体部的厚度；第一拼接部的下表面与主体部的下表面齐平，第二拼接部的上表面与主体部的上表面齐平；任意相邻的掩膜片中，其中一个掩膜片的第一拼接部与另一个掩膜片的第二拼接部交叠。任意相邻的掩膜片的主体部之间的区域设置有多个第二像素孔，所有第一像素孔和所有第二像素孔整体呈阵列且均匀排布。 | ||
| 搜索关键词： | 膜片 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜片，其特征在于，包括主体部、第一拼接部和第二拼接部，所述第一拼接部和所述第二拼接部位于所述主体部沿所述掩膜片的宽度方向的两侧；所述主体部设有多个第一像素孔；/n所述第一拼接部和所述第二拼接部的厚度之和等于所述主体部的厚度；所述第一拼接部的下表面与所述主体部的下表面齐平，所述第二拼接部的上表面与所述主体部的上表面齐平。/n
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