[发明专利]掩膜片、掩膜板及其制备方法

说明书

本发明提供了一种掩膜片、掩膜板及其制备方法，涉及显示技术领域，能够提高掩膜板的蒸镀效果。其中的掩膜板，包括框架、以及跨设在框架上的多个掩膜片。掩膜片包括主体部、第一拼接部和第二拼接部，第一拼接部和第二拼接部位于主体部沿掩膜片的宽度方向的两侧；主体部设有多个第一像素孔。第一拼接部和第二拼接部的厚度之和等于主体部的厚度；第一拼接部的下表面与主体部的下表面齐平，第二拼接部的上表面与主体部的上表面齐平；任意相邻的掩膜片中，其中一个掩膜片的第一拼接部与另一个掩膜片的第二拼接部交叠。任意相邻的掩膜片的主体部之间的区域设置有多个第二像素孔，所有第一像素孔和所有第二像素孔整体呈阵列且均匀排布。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜片、掩膜板及其制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示、有机发光半导体，具有自发光、广视角、高对比度、较低耗电、极高反应速度等优点。

在OLED显示器件中经常包括多种膜层，例如包括阳极、阴极、发光层等。所以在制备OLED显示器件时，需要将OLED显示器件中的各膜层通过蒸镀工艺蒸镀到待蒸镀的玻璃基板上，对于其中的某些膜层的蒸镀，则需要使用到FMM(Fine Metal MASK，精细金属掩膜板)，通过FMM上的通孔使蒸镀材料蒸镀到设计的位置，形成设计的膜层图案。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜片、掩膜板及其制备方法，能够提高掩膜板的蒸镀效果，降低掩膜板的维修成本。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种掩膜片，包括主体部、第一拼接部和第二拼接部，所述第一拼接部和所述第二拼接部位于所述主体部沿所述掩膜片的宽度方向的两侧；所述主体部设有多个第一像素孔。

所述第一拼接部和所述第二拼接部的厚度之和等于所述主体部的厚度；所述第一拼接部的下表面与所述主体部的下表面齐平，所述第二拼接部的上表面与所述主体部的上表面齐平。

可选的，所述第一拼接部的厚度等于所述第二拼接部的厚度。

另一方面，提供一种掩膜板，包括框架、以及跨设在所述框架上的多个掩膜片。

所述掩膜片包括主体部、第一拼接部和第二拼接部，所述第一拼接部和所述第二拼接部位于所述主体部沿所述掩膜片的宽度方向的两侧；所述主体部设有多个第一像素孔。

所述第一拼接部和所述第二拼接部的厚度之和等于所述主体部的厚度；所述第一拼接部的下表面与所述主体部的下表面齐平，所述第二拼接部的上表面与所述主体部的上表面齐平；任意相邻的所述掩膜片中，其中一个所述掩膜片的所述第一拼接部与另一个所述掩膜片的所述第二拼接部交叠。

任意相邻的所述掩膜片的所述主体部之间的区域设置有多个第二像素孔，所有所述第一像素孔和所有所述第二像素孔整体呈阵列且均匀排布。

可选的，所述第二拼接部的宽度大于所述第一拼接部的宽度。

在任意相邻的所述掩膜片的所述主体部之间的区域，部分所述第二像素孔仅贯穿所述第二拼接部，部分所述第二像素孔同时贯穿所述第二拼接部和所述第一拼接部。

可选的，任意相邻的两个掩膜片中，其中一个所述掩膜片的所述第二拼接部与另一个所述掩膜片的所述主体部之间具有间距。

所述间距小于沿所述掩膜片的宽度方向，相邻的两个所述第一像素孔之间的距离。

可选的，所述间距的范围为10μm～500μm。