[发明专利]一种铜蚀刻液在审

专利信息
申请号: 201911008348.4 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN110644001A 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 李少平;蔡步林;贺兆波;张演哲;张庭;万杨阳;王书萍;冯凯;尹印 申请(专利权)人: 湖北兴福电子材料有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18
代理公司: 42103 宜昌市三峡专利事务所 代理人: 成钢
地址: 443007 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种稳定高效的铜蚀刻液。该铜蚀刻液由双氧水、硫酸、乙二胺四乙酸、柠檬酸钠和去离子水组成,在该蚀刻液蚀刻过程中,双氧水和金属铜反应形成氧化铜,硫酸与生成的氧化铜反应生成可溶性的二价铜离子。在该蚀刻过程中生成的二价铜离子一方面由于自身的氧化性会继续对金属铜氧化生成一价铜离子,随着蚀刻液铜离子的不断累积,蚀刻速率会越来越快,变得无法受控;另一方面,铜离子加速双氧水分解,从而缩短蚀刻液寿命,同时制程中液体温度急剧上升,易导致安全事故发生。本发明通过加入一定比例乙二胺四乙酸和柠檬酸钠,稳定蚀刻液铜离子浓度和pH值,有效的延长了蚀刻液使用寿命,提高了蚀刻速率及稳定性。
搜索关键词: 蚀刻液 蚀刻 铜离子 双氧水 乙二胺四乙酸 二价铜离子 柠檬酸钠 铜蚀刻液 金属铜 氧化铜 硫酸 双氧水分解 一价铜离子 安全事故 去离子水 使用寿命 氧化性 受控 制程
【主权项】:
1.一种铜蚀刻液,其特征在于:所述的铜蚀刻液由双氧水、硫酸、乙二胺四乙酸、柠檬酸钠和去离子水组成。/n
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