[发明专利]一种铜蚀刻液在审
| 申请号： | 201911008348.4 | 申请日： | 2019-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN110644001A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 李少平;蔡步林;贺兆波;张演哲;张庭;万杨阳;王书萍;冯凯;尹印 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 42103 宜昌市三峡专利事务所 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻液 蚀刻 铜离子 双氧水 乙二胺四乙酸 二价铜离子 柠檬酸钠 铜蚀刻液 金属铜 氧化铜 硫酸 双氧水分解 一价铜离子 安全事故 去离子水 使用寿命 氧化性 受控 制程 | ||
1.一种铜蚀刻液，其特征在于：所述的铜蚀刻液由双氧水、硫酸、乙二胺四乙酸、柠檬酸钠和去离子水组成。
2.根据权利要求1所述的铜蚀刻液，其特征在于：蚀刻液中双氧水的重量含量在1%-20%；硫酸的重量含量在0.5%-10%；乙二胺四乙酸的重量含量在0.5%-10%；柠檬酸钠的重量含量在0.5%-10%；去离子水的重量含量为余量。
3.根据权利要求1所述的铜蚀刻液，其特征在于：蚀刻液中双氧水的重量含量为5.0%；硫酸的重量含量为2.0%；乙二胺四乙酸的重量含量为2.0%；柠檬酸钠的重量含量为2.0%；去离子水的重量含量为余量，其中去离子水金属离子含量低于0.1ppb。
4.根据权利要求1-3任一项所述的铜蚀刻液，其特征在于：所述的蚀刻液中还包含有1-(1,3,4-三唑基)-2,4,6-均苯三甲酸或1H-1,2,4-三唑-1-乙酸；其中1-(1,3,4-三唑基)-2,4,6-均苯三甲酸或1H-1,2,4-三唑-1-乙酸的重量含量为0.5-2%。
5.根据权利要求4所述的铜蚀刻液，其特征在于：1-(1,3,4-三唑基)-2,4,6-均苯三甲酸或1H-1,2,4-三唑-1-乙酸的重量含量为1.5%。
6.根据权利要求4所述的铜蚀刻液，其特征在于：1-(1,3,4-三唑基)-2,4,6-均苯三甲酸或1H-1,2,4-三唑-1-乙酸可替换掉权利要求1-3任一项所述的乙二胺四乙酸的组分，则1-(1,3,4-三唑基)-2,4,6-均苯三甲酸或1H-1,2,4-三唑-1-乙酸的重量含量为1-15%。
7.根据权利要求6所述的铜蚀刻液，其特征在于：1-(1,3,4-三唑基)-2,4,6-均苯三甲酸或1H-1,2,4-三唑-1-乙酸的重量含量为5%。
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