[发明专利]镀膜设备、离子源、以及栅极结构在审
| 申请号： | 201910998506.9 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN110643954A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 姜友松;宣玲;王怀民 | 申请（专利权）人： | 合肥晞隆光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;H01J37/32 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张印铎;周达 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本申请公开一种镀膜设备、离子源、以及栅极结构，该镀膜设备包括：真空容器；具有基板保持面的基板保持单元；具有等离子体引出栅极结构的离子源；其中，所述栅极结构包括：具有球面结构的主体部、以及位于所述主体部边侧的平衡部；所述主体部在所述基板保持面上形成第一照射区域；所述平衡部在所述基板保持面上形成第二照射区域；至少一部分所述平衡部的第二照射区域与一部分所述主体部的第二照射区域相重合；成膜单元；所述成膜单元以能够向所述基板保持面的一部分区域供给成膜材料的形式被设置在真空容器中。该镀膜设备、离子源、以及栅极结构能够使得等离子体在被照射区域分布更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 基板保持 栅极结构 照射区域 主体部 镀膜设备 离子源 平衡部 等离子体 成膜单元 真空容器 基板保持单元 被照射区域 成膜材料 球面结构 重合 申请 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：/n真空容器；/n具有基板保持面的基板保持单元；/n具有等离子体引出栅极结构的离子源；所述离子源以离子束能够向着所述基板保持面的至少一部分区域进行照射的形式被设置在所述真空容器中；其中，所述栅极结构包括：具有球面结构的主体部、以及位于所述主体部边侧的平衡部；所述主体部在所述基板保持面上形成第一照射区域；所述平衡部在所述基板保持面上形成第二照射区域；至少一部分所述平衡部的第二照射区域与一部分所述主体部的第二照射区域相重合；/n成膜单元；所述成膜单元以能够向所述基板保持面的至少一部分区域供给成膜材料的形式被设置在真空容器中；所述供给成膜材料的区域与所述离子源的照射区域的至少一部分相重合。/n
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