[发明专利]镀膜设备、离子源、以及栅极结构

权利要求书

1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

真空容器；

具有基板保持面的基板保持单元；

具有等离子体引出栅极结构的离子源；所述离子源以离子束能够向着所述基板保持面的至少一部分区域进行照射的形式被设置在所述真空容器中；其中，所述栅极结构包括：具有球面结构的主体部、以及位于所述主体部边侧的平衡部；所述主体部在所述基板保持面上形成第一照射区域；所述平衡部在所述基板保持面上形成第二照射区域；至少一部分所述平衡部的第二照射区域与一部分所述主体部的第二照射区域相重合；

成膜单元；所述成膜单元以能够向所述基板保持面的至少一部分区域供给成膜材料的形式被设置在真空容器中；所述供给成膜材料的区域与所述离子源的照射区域的至少一部分相重合。

2.一种离子源，其特征在于，包括：

离子源壳体；

设置于所述离子源壳体内部的放电室；

盖设在放电室上的等离子体引出栅极结构；所述栅极结构上分布有用于输出离子束的离子引出孔；所述栅极结构包括：具有球面结构的主体部、以及位于所述主体部边侧的平衡部；所述主体部具有的第一照射区域；所述平衡部具有第二照射区域；其中，至少一部分所述平衡部的第二照射区域与一部分所述主体部的第二照射区域相重合；

设置于所述离子源壳体内部的射频天线；

用于从所述离子源壳体外部向所述放电室内导入气体的进气组件。

3.一种离子源等离子体引出栅极结构，所述栅极结构上分布有用于输出离子束的离子引出孔；其特征在于，包括：

具有球面结构的主体部；所述主体部具有的第一照射区域；

位于所述主体部边侧的平衡部；所述平衡部具有第二照射区域；其中，至少一部分所述平衡部的第二照射区域与一部分所述主体部的第二照射区域相重合。

4.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，所述第二照射区域与所述第一照射区域的重合区域邻近所述第一照射区域的边缘。

5.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，所述平衡部为围绕所述主体部设置的环状结构。

6.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，所述平衡部照射离子方向偏离所述栅极结构中心法线方向的程度小于部分所述主体部的照射离子方向偏离所述栅极结构中心法线方向的程度。

7.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，所述主体部的照射面积沿其照射方向逐渐增大；所述平衡部的照射面积沿其照射方向保持不变。

8.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，所述平衡部为具有预定倾斜角度的锥面结构；所述预定倾斜角度的取值范围为5度至50度。

9.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，所述平衡部为曲面结构；所述平衡部的曲率半径大于所述主体部的曲率半径。

10.如权利要求9所述的栅极结构，其特征在于，所述曲面结构为球面。

11.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，在经过所述栅极结构的中心的纵截面上，相对于所述主体部的球心，所述平衡部的轮廓所对应的圆心角小于所述主体部所对应的圆心角。

12.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，在经过所述栅极结构中心的纵截面上，所述平衡部的轮廓的长度小于所述主体部的轮廓的长度。

13.如权利要求3所述的栅极结构，其特征在于，所述平衡部的面积小于所述主体部的面积。