[发明专利]一种屏缺陷过滤方法、装置及存储介质有效
| 申请号： | 201910982757.8 | 申请日： | 2019-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN110490875B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 余飞;张胜森;陈洪 | 申请（专利权）人： | 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/62;G06T5/00 |
| 代理公司： | 42224 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 雷霄 |
| 地址： | 430205 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种屏缺陷过滤方法、装置及存储介质。所述方法用于对已检测的缺陷进行过滤，且所述方法包括以下步骤中的至少一个：根据未过滤的所述缺陷的概率值与预设卡控阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤；根据未过滤的所述缺陷的面积与预设面积阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤；计算未过滤的所述缺陷与样本图片的相似度，根据所述相似度与预设相似度阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤。本发明具有人力成本低、过滤精度高、效率高、主观影响因素少的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 过滤 相似度 预设 存储介质 人力成本 样本图片 影响因素 主观 概率 检测 | ||
【主权项】：
1.一种屏缺陷过滤方法，其特征在于，所述方法用于对已检测的缺陷进行过滤，且所述方法包括以下步骤中的至少一个：/nS1，根据未过滤的所述缺陷的概率值与预设卡控阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤；/nS2，根据未过滤的所述缺陷的面积与预设面积阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤；/nS6，计算未过滤的所述缺陷与样本图片的相似度，根据所述相似度与预设相似度阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤。/n
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