[发明专利]一种屏缺陷过滤方法、装置及存储介质

说明书

本发明提供了一种屏缺陷过滤方法、装置及存储介质。所述方法用于对已检测的缺陷进行过滤，且所述方法包括以下步骤中的至少一个：根据未过滤的所述缺陷的概率值与预设卡控阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤；根据未过滤的所述缺陷的面积与预设面积阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤；计算未过滤的所述缺陷与样本图片的相似度，根据所述相似度与预设相似度阈值的比较确定是否将所述缺陷过滤。本发明具有人力成本低、过滤精度高、效率高、主观影响因素少的优点。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种屏缺陷过滤方法、装置及存储介质。

背景技术

LCD等显示屏被广泛应用在电脑、通讯、消费型电子等行业中。显示屏的制造工艺比较复杂，从而导致显示屏可能存在缺陷，因此需要进行显示屏缺陷检测。现有技术中通常采用算法进行缺陷检测。

然而，在生产、转运或者其他环节不可避免地出现各种微小缺陷或者具有干扰的非真实缺陷。例如，空气中的细小灰尘会导致LCD屏形成气泡，或者屏幕在生产过程中沾染污渍，或者搬运时出现轻微磕伤，或者面胶涂布不均等产生的轻微缺陷或者非真实缺陷。这些缺陷的存在并不会对屏幕的正常使用带来影响。但现有技术中进行缺陷检测时，会因为以上因素不可避免地将这些轻微的缺陷检测出来，产生大量不合格显示屏，即为产生大量过检。为了提升面板生产的良率，一般采用人力复查的方法来过滤轻微的屏缺陷，即将轻微缺陷或非真实缺陷屏从不合格屏中过滤出来。然而采用人力复查过滤的方法，人力成本高，过滤精度较低，效率低，主观影响因素较多，因此需要设计合理的过滤方法，用于降低过检，提升面板生产的良率。

发明内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本发明提出了一种屏缺陷过滤方法、装置及存储介质，能够解决现有技术中人力复查过滤人力成本高、过滤精度较低、效率低、主观影响因素较多等问题。

根据本发明的一个方面，本发明提供了一种屏缺陷过滤方法，所述方法用于对已检测的缺陷进行过滤，且所述方法包括以下步骤中的至少一个：

S1，根据未过滤的缺陷的概率值与预设卡控阈值的比较确定是否将该缺陷过滤；

S2，根据未过滤的缺陷的面积与预设面积阈值的比较确定是否将该缺陷过滤；

S6，计算未过滤的所述缺陷与样本图片的相似度，根据该相似度与预设相似度阈值的比较确定是否将该缺陷过滤。

作为本发明的进一步改进，在步骤S6之前，该方法包括以下步骤中的至少一个：

S3，判断未过滤的缺陷是否位于黑边区，如果该缺陷位于该黑边区，则根据该缺陷的面积占该黑边区总面积的比与预设占比阈值的比较确定是否将该缺陷过滤；

S4，判断未过滤的缺陷是否位于特殊区域，如果该缺陷位于该特殊区域，则根据该缺陷的类型与该特殊区域所有可能的缺陷类型是否匹配确定是否将该缺陷过滤；

S5，采用深度学习方法对未过滤的缺陷进行分类，根据该缺陷分类结果与预设分类阈值的比较确定是否将该缺陷过滤。

作为本发明的进一步改进，方法中的多个步骤被按顺序依次执行，若在前步骤中缺陷未被过滤则将该缺陷输出到其下一步骤。

作为本发明的进一步改进，步骤S6具体是：

提取缺陷的特征向量和样本图片的特征向量；

计算缺陷与样本图片的相似度；

比较相似度与预设相似度阈值，若相似度小于预设相似度阈值，则将缺陷过滤，若相似度大于预设相似度阈值，则不将该缺陷过滤。

作为本发明的进一步改进，所述计算缺陷与样本图片的相似度具体是：