[发明专利]掩模修复设备和掩模修复方法在审
| 申请号： | 201910981562.1 | 申请日： | 2019-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN111090217A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 文英慜;任星淳;高政佑;李尚玟;李宁哲;黄圭焕 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/72 | 分类号： | G03F1/72 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 田野;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种掩模修复设备和一种掩模修复方法，所述掩模修复设备可以包括：平台；立体成像单元，测量平台上的掩模的立体图像；控制单元，将立体图像与掩模的正常图像进行比较并产生掩模的缺陷图像；以及激光单元，在控制单元的控制下，将激光束照射到掩模的缺陷部分上。基于缺陷图像，控制单元可以控制激光单元，使得激光束在彼此交叉的第一方向和第二方向上重复地移动的同时顺序地照射到缺陷部分的m个多层上。 | ||
| 搜索关键词： | 修复 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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