[发明专利]一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统及方法在审
| 申请号： | 201910966483.3 | 申请日： | 2019-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN110642440A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 夏萍;叶辉;王铮;姜蕾;金磊;张双翼 | 申请（专利权）人： | 上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/08 | 分类号： | C02F9/08;C02F1/32;C02F1/72;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38 |
| 代理公司： | 31274 上海国智知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 潘建玲 |
| 地址： | 200082 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统及方法，该系统包括混凝池、沉积池、砂滤池以及活性炭工艺装置，所述系统还包括UV装置，所述UV装置连接在所述砂滤池与活性炭工艺装置之间，砂滤后的处理水流进所述所述UV装置，进水的同时以加药的方式注入双氧水，所述UV装置内设紫外灯，开启所述UV装置的紫外灯，以使紫外强度达到稳定状态，该UV装置的出水即为去除抗生素的处理水，该去除抗生素后的处理水再经过所述活性炭工艺装置去除未反应的双氧水，本发明可实现利用UV/H | ||
| 搜索关键词： | 去除 抗生素 活性炭工艺 双氧水 工艺流程 处理水 砂滤池 紫外灯 水厂 沉积池 混凝池 出水 加药 进水 砂滤 联合 | ||
【主权项】：
1.一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，包括混凝池、沉积池、砂滤池以及活性炭工艺装置，其特征在于，所述系统还包括UV装置，所述UV装置连接在所述砂滤池与活性炭工艺装置之间，砂滤后的处理水流进所述所述UV装置，进水的同时以加药的方式注入双氧水，所述UV装置内设紫外灯，以通过开启所述UV装置的紫外灯，使紫外强度达到稳定状态，所述UV装置的出水即为去除抗生素的处理水，该去除抗生素后的处理水再经过所述活性炭工艺装置去除未反应的双氧水。/n
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