[发明专利]一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统及方法在审
| 申请号： | 201910966483.3 | 申请日： | 2019-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN110642440A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 夏萍;叶辉;王铮;姜蕾;金磊;张双翼 | 申请（专利权）人： | 上海城市水资源开发利用国家工程中心有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/08 | 分类号： | C02F9/08;C02F1/32;C02F1/72;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38 |
| 代理公司： | 31274 上海国智知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 潘建玲 |
| 地址： | 200082 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 去除 抗生素 活性炭工艺 双氧水 工艺流程 处理水 砂滤池 紫外灯 水厂 沉积池 混凝池 出水 加药 进水 砂滤 联合 | ||
1.一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，包括混凝池、沉积池、砂滤池以及活性炭工艺装置，其特征在于，所述系统还包括UV装置，所述UV装置连接在所述砂滤池与活性炭工艺装置之间，砂滤后的处理水流进所述所述UV装置，进水的同时以加药的方式注入双氧水，所述UV装置内设紫外灯，以通过开启所述UV装置的紫外灯，使紫外强度达到稳定状态，所述UV装置的出水即为去除抗生素的处理水，该去除抗生素后的处理水再经过所述活性炭工艺装置去除未反应的双氧水。
2.如权利要求1所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，其特征在于：注入双氧水混合后参与反应的双氧水浓度为3～6mg/L。
3.如权利要求1所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，其特征在于：进水的同时以加药的方式向所述UV装置中注入酸性溶液或碱性溶液以调节所述UV装置中的处理水的pH值为6.0～8.0。
4.如权利要求3所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，其特征在于：以加药的方式向所述UV装置中注入硫酸或氢氧化钠以调节所述UV装置中的处理水的pH值为6.0～8.0。
5.如权利要求1所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，其特征在于：利用流量泵调节所述UV装置中水流量为2-4m3/h，水力停留时间为h。
6.如权利要求1所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，其特征在于：所述UV装置内设200-300nm的紫外灯，其照射强度为600～700mJ/cm2。
7.如权利要求1所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的系统，其特征在于：所述UV装置所去除的抗生素包括但不限于磺胺类：磺胺二甲嘧啶、磺胺甲恶唑、磺胺嘧啶、甲氧苄啶、磺胺氯哒嗪；大环内酯类：罗红霉素；四环素类：甲砜霉素、氟甲砜霉素、四环素、土霉素；酰胺醇类抗生素：氯霉素中的一种或多种的混合物。
8.一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的方法，包括如下步骤：
步骤S1，将UV装置连接在砂滤池之后及活性炭工艺装置之前，所述UV装置内设有紫外灯；
步骤S2，砂滤后的处理水进入所述UV装置的同时，以加药的方式向所述UV装置注入双氧水使混合后参与反应的双氧水浓度为3～6mg/L；
步骤S3，以加药的方式向所述UV装置注入注入酸性溶液或碱性溶液以调节所述UV装置中的处理水的pH值为6.0～8.0；
步骤S4，开启所述UV装置的紫外灯，以使紫外强度达到稳定状态，该UV装置的出水即为去除抗生素的处理水，该去除抗生素后的处理水再经过活性炭工艺去除未反应的双氧水。
9.如权利要求8所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的方法，其特征在于，所述方法还包括如下步骤：
调节所述UV装置中水流量为2-4m3/h,水力停留时间为h。
10.如权利要求8所述的一种去除水厂工艺流程中难去除的抗生素的方法，其特征在于：于步骤S4中，开启所述UV装置的200-300nm紫外灯，其照射强度为600～700mJ/cm2，紫外灯开启若干时间以使紫外强度达到稳定状态，该UV装置出水即为去除抗生素的处理水。
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