[发明专利]一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法

摘要

一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法，它涉及纸张表面改性技术。它要解决现有纸张表面涂布改性方法存在使用成分多、成本高、工艺复杂以及轻量化程度低的问题。方法：将高分子靶材与铜靶一起磁控溅射在衬底材料表面上制备过渡层；高分子靶材和Ti靶的双靶共溅射，沉积TiO2/(CH)t复合涂层，即完成。本发明采用高分子靶材与Ti靶共置于真空磁控等离子溅射腔体内，在Ar粒子轰击下实现纸张表面均匀致密的复合涂层沉积；制备过程无须使用抗水剂、荧光剂等助剂，工艺简便，易操作，明显改善了纸张表面的印刷适应性，且在纸张满足印刷适性要求下实现纸张更高程度的轻量化，具有重要的环保价值与社会意义。本发明适用于纸张表面改性。

主权项

1.一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法，其特征在于它按以下步骤进行：/n一、将衬底材料置于磁控溅射真空室中的样品台上，将高分子靶材与铜靶粘结在一起并置于磁控溅射真空室的靶位上，抽真空，然后进行磁控溅射20～30min，在衬底材料表面上制备过渡层；/n二、进行1～3次的高分子靶材和Ti靶的双靶共溅射，即在上述过渡层上沉积得到TiO₂/(CH)t复合涂层，完成改善纸张表面印刷适应性的涂层制备；/n磁控溅射高分子靶材工艺参数：工作气体为纯度≥99.999％的氩气，沉积速率为10～150nm/min，工作气压0.4～0.7Pa、基靶间距为6～12cm，功率密度3.5W/cm²～10.0W/cm²；/n双靶共溅射工艺参数：工作气体为纯度≥99.999％的氩气，沉积速率为10～150nm/min，工作气压0.4～0.7Pa、基靶间距为6～12cm、双靶功率密度比为0.5～2.5。/n