[发明专利]一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法

权利要求书

1.一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法，其特征在于它按以下步骤进行：

(1)、将衬底材料置于磁控溅射真空室中的样品台上，将高分子靶材与铜靶粘结在一起并置于磁控溅射真空室的靶位上，抽真空，然后进行磁控溅射20～30min，在衬底材料表面上制备过渡层，所述衬底材料为铜版纸、胶版纸或新闻纸，所述高分子靶材是按重量百分比将2％粒度为3～5nm的TiO、3％粒度为100nm的TiO₂和95％的聚丙烯混合，经旋涂制备所得，旋涂厚度为300～3000μm；

(2)、进行1～3次的高分子靶材和Ti靶的双靶共溅射，即在上述过渡层上沉积得到TiO₂/(CH)t复合涂层，完成改善纸张表面印刷适应性的涂层制备；所述衬底材料为铜版纸时沉积TiO₂/(CH)_t复合涂层的厚度为10～15μm，所述衬底材料为胶版纸时沉积TiO₂/(CH)_t复合涂层的厚度为15～50μm，所述衬底材料为新闻纸时沉积TiO₂/(CH)_t复合涂层的厚度为40～200μm；

磁控溅射高分子靶材工艺参数：工作气体为纯度≥99.999％的氩气，沉积速率为10～150nm/min，工作气压0.4～0.7Pa、基靶间距为6～12cm，功率密度3.5W/cm²～10.0W/cm²；

双靶共溅射工艺参数：工作气体为纯度≥99.999％的氩气，沉积速率为10～150nm/min，工作气压0.4～0.7Pa、基靶间距为6～12cm、双靶功率密度比为0.5～2.5。

2.根据权利要求1所述的一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法，其特征在于步骤(1)中所述磁控溅射时间25min。

3.根据权利要求1所述的一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法，其特征在于步骤(1)中所述高分子靶材与铜靶的尺寸相同。

4.根据权利要求1所述的一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法，其特征在于步骤(2)中所述Ti靶的纯度为99.99％。