[发明专利]一种兆声波组合气体喷雾清洗装置及其应用有效
| 申请号： | 201910908597.2 | 申请日： | 2019-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN110624893B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 雷海波;田明;李红 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种兆声波组合气体喷雾清洗装置及其应用，采用兆声波清洗晶圆表面的污染颗粒，其具有效率高，极小尺寸颗粒(纳米级)去除效率极高的特点；气体雾化喷嘴清洗实现方式简单，大尺寸颗粒去除能力强，该装置可以结合两者的优势。该装置应用于芯片制造中，可以有效的去除小尺寸缺陷；同时搭配气体雾化喷嘴清洗对大尺寸颗粒去除能力强的特点，对大尺寸污染颗粒去除，解决该制程中表面颗粒不稳定的现象，将缺陷去除率提高到90％以上。该装置的应用不仅限于沟槽或带有栅极的表面颗粒的去除，也可应用晶圆制造过程中的平坦面，通过调整气体雾化装置中气体的流量或者超声波能量，增强对表面颗粒的去除效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 声波 组合 气体 喷雾 清洗 装置 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于，至少包括：/n通过控制系统控制的兆声波发生器和带喷嘴的气体喷雾装置；所述气体喷雾装置位于清洗基板上，所述清洗基板上还设有控制所述气体喷雾装置的数个按钮；所述兆声波发生器位于待清洗晶圆的上方。/n
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