[发明专利]一种兆声波组合气体喷雾清洗装置及其应用

权利要求书

1.一种兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于，至少包括：

通过控制系统控制的兆声波发生器和带喷嘴的气体喷雾装置；所述气体喷雾装置位于清洗基板上，所述清洗基板上还设有控制所述气体喷雾装置的数个按钮；所述兆声波发生器位于待清洗晶圆的上方；采用所述兆声波发生器发出兆声波去除待清洗晶圆上位于结构图形密集区的污染颗粒；采用气体喷雾装置上的喷嘴喷出气体去除待清洗晶圆上位于平坦区的污染颗粒。

2.根据权利要求1所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于：所述兆声波发生器发出波的频率为1至2MHz。

3.根据权利要求1所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于：所述气体喷雾装置中载有功能水。

4.根据权利要求3所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于：所述气体喷雾装置中载有的功能水的PH值大于7。

5.根据权利要求1所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于：所述清洗基板上的数个按钮中包含调节气体流量大小的按钮。

6.根据权利要求1所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于：所述控制系统对所述兆声波发生器和所述气体喷雾装置的控制模式为同时控制。

7.根据权利要求1所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置，其特征在于：所述控制系统对所述兆声波发生器和所述气体喷雾装置的控制模式为分别单独控制。

8.根据权利要求1至7任意一项所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：采用所述兆声波发生器发出兆声波去除待清洗晶圆上尺寸为纳米级的污染颗粒；采用气体喷雾装置上的喷嘴喷出气体去除待清洗晶圆上尺寸为亚微米级以上的污染颗粒。

9.根据权利要求8所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：所述兆声波发生器以发出脉冲形式的兆声波去除所述待清洗晶圆上尺寸为纳米级的污染颗粒。

10.根据权利要求1所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：所述兆声波发生器以发出脉冲形式的兆声波去除所述待清洗晶圆上位于结构图形密集区的污染颗粒。

11.根据权利要求9或10所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：通过调节待清洗晶圆与所述兆声波发生器之间的距离来控制所述待清洗晶圆表面接收的能量。

12.根据权利要求10所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：所述待清洗晶圆上的结构图形密集区为沟槽区域或栅极内区域。

13.根据权利要求8所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：采用所述兆声波发生器发出兆声波去除待清洗晶圆上尺寸小于500纳米的污染颗粒。

14.根据权利要求8所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：所述气体喷雾装置中载有功能水，所述功能水被雾化后通过所述喷嘴喷出以去除所述待清洗晶圆上尺寸为亚微米级以上的污染颗粒。

15.根据权利要求1所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：所述气体喷雾装置中载有功能水，所述功能水被雾化后通过所述喷嘴喷出以去除所述待清洗晶圆上位于平坦区的污染颗粒。

16.根据权利要求14或15所述的兆声波组合气体喷雾清洗装置的应用，其特征在于：所述功能水为通入氢气后的水。