[发明专利]一种具有大键合力的三维异构焊接方法有效

专利信息
申请号: 201910905503.6 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN110690131B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 郁发新;冯光建;王永河;马飞;程明芳 申请(专利权)人: 浙江集迈科微电子有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 代理人: 董世博
地址: 313100 浙江省湖州市长兴县经济技术开发*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种具有大键合力的三维异构焊接方法,具体包括如下步骤:101)第一载板制作步骤、102)再次处理步骤、103)镀锡步骤、104)第二载板制作步骤、105)键合步骤;本发明通过金属湿法腐蚀工艺或电镀工艺,在载板做键合的表面分别制作相互匹配的图形,增大接触面积,为后续的金属熔融反应提供场所,能大大增加两者焊接力量的一种具有大键合力的三维异构焊接方法。
搜索关键词: 一种 具有 合力 三维 焊接 方法
【主权项】:
1.一种具有大键合力的三维异构焊接方法,其特征在于:具体包括如下步骤:/n101)第一载板制作步骤:第一载板上表面通过物理溅射,磁控溅射或者蒸镀工艺制作种子层;种子层上涂布第一层光刻胶,通过显影工艺去除部分种子层露出待电镀区域,电镀金属形成金属柱,且金属柱上表面为平面;/n102)再次处理步骤:在步骤101)处理的第一载板上表面涂布第二层光刻胶,曝光显影露出金属柱的部分,再电镀金属去除光刻胶,得到带有凸起的凸点或焊圈,即金属柱顶部露出的区域形成凹槽;/n103)镀锡步骤:去除第二层光刻胶电镀锡或在电镀金属区域直接进行焊锡,去除第二层光刻胶、第一层光刻胶和种子层;/n104)第二载板制作步骤:第一载板上表面通过物理溅射,磁控溅射或者蒸镀工艺制作种子层;种子层上涂布第一层光刻胶,通过显影工艺去除部分种子层露出待电镀区域,电镀金属形成金属柱,且金属柱上表面为平面;在第二载板上表面再涂布第二层光刻胶,曝光显影露出金属柱的部分,再电镀金属去除光刻胶,得到与第一载板相适应的凸台结构;/n去除第二层光刻胶电镀锡或在电镀金属区域直接进行焊锡,去除第二层光刻胶、第一层光刻胶和种子层;涂助焊剂,回流后清洗助焊剂得到载板上表面带有焊锡层的结构;/n105)键合步骤:通过表面贴装工艺把第一载板和第二载板的表面贴装,使第一载板和第二载板上的凹槽和凸台结构匹配,形成增大键合力的三维异构结构。/n
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