[发明专利]一种展青霉素分子印迹纳米纤维膜的制备方法有效
| 申请号： | 201910905475.8 | 申请日： | 2019-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN110560016B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 邵华;佘永新;赵民娟;王静;金芬;金茂俊;王珊珊;王淼;曹振 | 申请（专利权）人： | 中国农业科学院农业质量标准与检测技术研究所 |
| 主分类号： | B01J20/28 | 分类号： | B01J20/28;B01J20/285;B01D71/38;B01D67/00;B01D15/08 |
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| 地址： | 100081 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种展青霉素分子印迹纳米纤维膜的制备方法，本发明通过制备分子印迹聚合物结合静电纺丝技术得到分子印迹纳米纤维膜,本发明使用2‑吲哚酮和6‑羟基烟酸作为虚拟模板分子，采用溶胶凝胶技术结合静电纺丝技术得到的分子印迹纳米纤维膜对展青霉素具有良好的特异性吸附和重复利用性，对展青霉素的专一性识别、高效分离及富集的应用，能够实现对展青霉素的特异性吸附。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 青霉素 分子 印迹 纳米 纤维 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种展青霉素分子印迹纳米纤维膜的制备方法，其特征在于：/n包括以下步骤/nA制备展青霉素分子印迹聚合物：将2-吲哚酮标准品和6-羟基烟酸标准品按照摩尔比1：1-4溶解在甲醇中，随后加入3-氨丙基三乙氧基硅烷进行磁力搅拌进行预聚合10-50min，加入四乙氧基硅烷和滴加1-10mL氨水，磁力搅拌15-90min后将反应物放入30-80℃水浴锅孵化反应4-24h得到聚合物固体，所述模板分子为2-吲哚酮和6-羟基烟酸。/n非分子印迹聚合物(NIP)的制备除不加模板外，其余步骤与分子印迹聚合物(MIP)相同。/nB洗脱聚合物固体：将所述聚合物固体用甲醇冲洗2-5次后，40-80℃下真空干燥老化4-24h后，将干燥后的聚合物置圆底烧瓶中，加入一次有机溶剂进行预洗脱，磁力搅拌2-8h，用甲醇冲洗后置于40-80℃下真空干燥4-12h后将所述聚合物固体用二次有机溶剂洗脱模板，直至紫外分光光度计检测不到模板分子。/nC制备分子印迹纳米纤维膜：将含有分子印迹聚合物(MIP)的4％-10％的聚乙烯醇(PVA)纺丝溶液(其中MIP占PVA质量分数的10％-40％)在纺丝电压为8-23kv，纺丝距离为8-20cm，流速10-40μL/min，相对湿度40％～50％的条件下进行静电纺丝，纺丝结束后得到分子印迹纳米纤维膜，按照同样的方法制备非印迹纳米纤维膜(NINFMs)。/nD静电纺丝纤维膜的交联：将最佳条件制备的MINFMs(或NINFMs)浸泡在1-6％的戊二醛(GA)水溶液(其中硫酸浓度为1-8％，硫酸钠至饱和)中，交联10-60min后，将所述分子印迹纳米纤维膜真空干燥8-24h，密封得到所述展青霉素分子印迹纳米纤维膜。/n
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